如今，光譜分析已成為一項非常重要的在線過程監(jiān)測與優(yōu)化技術。由光纖連接的探頭可以直接監(jiān)控生產過程，并且不存在時間延遲。

　　MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過程反應器和管道中直接進行測量，讓您更好地理解和控制生產過程。其創(chuàng)新性技術提供了一致的高質量結果、縮短了停機時間，并實現(xiàn)了方法的直接轉移。布魯克生產的所有過程光譜儀都具有堅固性、長期穩(wěn)定性和維護成本低的特點。

　　數千臺在線光譜儀已經安裝和使用于化工、石化、聚合物和制藥生產過程以及食品和飼料制造領域，是我們過程控制豐富經驗的有力證明。

　　傅立葉近紅外（FT-NIR）過程監(jiān)測

　　如今，許多制造商不僅致力于生產具有最佳品質的成品，還希望通過將實驗室分析技術應用于工廠，來改進生產效率。通過加大對生產過程的監(jiān)控，制造商將能優(yōu)化物料利用，減少甚至消除不合格產品的產生，從而最終避免造成再加工和廢棄處理成本。

　　傅立葉近紅外分析技術的實時在線監(jiān)控的優(yōu)勢已眾所周知。然而，傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且，測量點有時很難接近，甚至是防爆等危險區(qū)。

　　通過利用光纖技術，MATRIX-F II 主機可與實測點相距數百米，將探頭直接安裝在采樣點，大大簡化了工業(yè)現(xiàn)場測試的難度。此外，當環(huán)境特別惡劣時可將主機置于帶空調的工業(yè)小屋內，這樣可以消除極端溫度影響，進一步優(yōu)化光譜儀的性能，還可以保護 MATRIX-F II，防止其遭受過度污垢和灰塵。

　　常見的過程控制包括監(jiān)測化學反應以及中間產品和成品的質量：

　　● 直接監(jiān)測生產反應器和管道中樣品；

　　● 遠距離測量；

　　● 加深過程理解和控制；

　　● 用于測定不同行業(yè)混合過程均勻性、化學品組分濃度和聚合過程狀態(tài)的理想工具；

　　效用最大化

　　MATRIX-F II 是目前唯一的只用一臺儀器就可對物料進行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用：

　　光纖探頭：可根據需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據物料性質選擇配置不同材質的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷。

　　非接觸式測量的發(fā)射探頭：非接觸式發(fā)射探頭內置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進行遠程非接觸式測量，實現(xiàn)一系列全新應用。它可以提供多達六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F II duple。

　　先進技術

　　MATRIX-F 是一款專用 FT-NIR過程光譜儀，經得任何考驗。

　　儀器使用最先進的光譜技術，在緊湊的模塊系統(tǒng)中實現(xiàn)出色的靈敏性和穩(wěn)定性。其創(chuàng)新設計提供始終如一的高質量檢測結果，并節(jié)約停機時間，模型直接傳遞，在新應用中并不會降低靈敏度和精度。完全支持工業(yè)標準通信協(xié)議，確保輕松集成。

　　MATRIX-F 可安裝在實驗室作為一臺獨立式系統(tǒng)，開發(fā)合適的方法，并可直接轉到您的過程應用分析。使用NEMA 4/IP66（防濺型），MATRIX-F不僅可成為獨立系統(tǒng)，還可放入標準的 19 英寸工業(yè)機柜中。MATRIX-F可裝配6通道光纖擴展模塊。

　　輕松維護

　　MATRIX-F 的設計確保了可靠性且易于維護。預對準安裝座上的消耗部件是用戶可更換的，無需重新對準光學元件。儀器可以快速維修，以最大限度地減少對制造過程的干擾。

　　儀器性能驗證

　　MATRIX-F 光譜儀內部配備有標準材料和濾光片的自動濾光輪，由 OPUS 軟件的 OVP（Optics Validation Program）程序控制，自動按照相關標準對儀器進行性能檢測，并對儀器性能指標進行評估，以確定儀器運行狀態(tài)是否正常、規(guī)范。

　　連接性

　　CMET軟件提供工業(yè)標準接口(OPC)可以集成到各種過程控制環(huán)境中，支持各種標準通信協(xié)議，包括4-20mA、Modbus、Profibus DP 和OPC。